众所周知，在咱们国家的经济开展的飞速带动下，我国科技企业也赢得了史无前例的开展空间，在推进国家开展的一起，也带领着我国科技走在了国际的前沿。其间体现最为显着的就是我国巨大的电子科技类产品群。不过需求知道的是，伴随着我国电子科技类产品结构群的不断强大，所存在的缺点也日益显露了出来。
尽管从现在来看，国产手机在全球占有了绝大部分市场占有率，但是最重要的芯片技能却仍旧受限于人，假使存在不确定要素，那么还会面临着卡脖子的遭受。要知道，在正常的情况下，芯片的出产的悉数进程包含两个环节，一个环节是规划，一个环节是制作。
在芯片规划环节，包含华为海思等闻名我国科技企业均现已研宣布7nm工艺制程的芯片，但是芯片制作环节却仍旧是我国最大的短板，究竟用于出产制作芯片的光刻机就是一大难题。假使在光刻机旁边面无法获得实质性的打破，将会使我国巨大的电子产业结构处于滞后。
或许在看到这儿的时分，绝大部分人会想到进口光刻机。但是要知道，现在可以出产出7nm工艺制程的尖端光刻机的只要荷兰ASML公司一家。至于美国和德国别离把握着14nm工艺光刻机技能。有碍于美国霸权主义的干与以及ASML在中心零部件方面严峻依赖于进口美国，这也导致了美国制止ASML公司向我国企业出售光刻机。
所以，在意识到芯片制作进程受限于人将会发生的连锁坏处后，我国也开端在国产光刻机范畴进行了巨额投入，而且不断传来好音讯。在前段时间，我国自主研制的14nm光刻机现已开始通过了专家组的检验和审阅。而继14nm制程工艺后，我国芯片传来利好音讯！国产光刻机的技能打破，让三星只能仰慕。
依据新闻媒体报道，武汉光电国家研究中心的甘棕松团队，已成功研宣布9nm工艺制程的光刻机。与传统光刻机不同的是，此次的国产光刻机使用二束激光打破了光束衍射极限的约束，刻出了最小9nm线宽的线段，这也是咱们独有的技能，咱们也用着自主产权。
不过需求知道的是，即使现在国产光刻机在9nm制程工艺方面的打破，与荷兰ASML所把握的7nm工艺制程比较还有必定的距离，但需求知道的是，这的确也是我国芯片开展史上的一个重要里程碑。而反观三星，到现在都没有完成光刻机技能的打破，所以一旦国产光刻机完成量产，那么必然也会让三星仰慕。
